半導(dǎo)體晶圓（晶片）的直徑為4到10英寸（10.16到25.4厘米）的圓盤，在制造過程中可承載非本征半導(dǎo)體。它們是正（P）型半導(dǎo)體或負(fù)（N）型半導(dǎo)體的臨時形式。硅晶片是非常常見的半導(dǎo)體晶片，因為硅是蕞流行的半導(dǎo)體，這是由于其在地球上的大量供應(yīng)。半導(dǎo)體晶圓是從錠上切片或切割薄盤的結(jié)果，它是根據(jù)需要被摻雜為P型或N型的棒狀晶體。然后對它們進(jìn)行刻劃，以用于切割或切割單個裸片或方形子組件，這些單個裸片或正方形子組件可能僅包含一種半導(dǎo)體材料或多達(dá)整個電路，例如集成電路計算機(jī)處理器。
劃刻并切割用于生產(chǎn)電子元件（如二極管，晶體管和集成電路）的半導(dǎo)體晶圓，以生產(chǎn)小晶粒。這說明了為什么芯片具有類似圖案的XY形成，這些圖案由芯片承載并且實際上包含多達(dá)整個電子電路。在生產(chǎn)線的后期，這些管芯將安裝在引線框架上，準(zhǔn)備將小的金屬線從管芯粘結(jié)到集成電路的引腳或引腳中。
怎么樣進(jìn)行半導(dǎo)體晶圓標(biāo)識和測試？
在將半導(dǎo)體晶圓切割成子部件之前，有機(jī)會使用自動步進(jìn)測試儀來測試它所攜帶的眾多芯片，這些測試儀將測試探針順序放置在芯片上的微觀端點(diǎn)上，以激勵，激勵和讀取相關(guān)的測試點(diǎn)。這是一種實用的方法，因為有缺陷的芯片不會被封裝到蕞終的組件或集成電路中，而只會在蕞終測試時被拒絕。一旦認(rèn)為模具有缺陷，墨水標(biāo)記就會滲出模具，以便于視覺隔離。典型的目標(biāo)是在100萬個管芯中，少于6個管芯將是有缺陷的。還需要考慮其他因素，因此可以優(yōu)化芯片恢復(fù)率。
質(zhì)量體系確保模具的回收率很高。晶圓邊緣上的裸片經(jīng)常會部分丟失。芯片上電路的實際生產(chǎn)需要時間和資源。為了稍微簡化這種高度復(fù)雜的生產(chǎn)方法，不對邊緣上的大多數(shù)模具進(jìn)行進(jìn)一步處理以節(jié)省時間和資源的總成本。
